濺鍍靶材,Sputtering Targets

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濺鍍靶材 Sputtering Targets 液晶面板 觸控面板

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液晶面板:主要分為3段(1) Array製程:主要是在玻璃基板上製作薄膜電晶體 (TFT, Thin Film Transitor). (2)Cell 製程:Array 與彩色濾光片(Color Filter)結合. (3)Module模組製程.Array製程及彩色濾光片大部可以薄膜製程完成,使用的材料:氧化銦錫ITO靶 , 鉻Cr 靶 , 鉬Mo靶, 鋁Al靶, 鈮Nb靶, 氧化鈮Nb2O5靶, 矽Si靶, 石英SiO2靶 控面板觸(Touch Panel) 分為電阻式及電容式.構造為:(1)基材: ITO 玻璃(2) ITO PET Film (3)阻隔材(4)導電膠. 薄膜製程使用的靶材: 氧化銦錫ITO靶 , 鉻Cr 靶 , 鉬Mo靶, 鋁Al靶, 鈮Nb靶, 氧化鈮Nb2O5靶, 矽Si靶, 石英SiO2靶.

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濺鍍靶材 工具 裝飾 鍍膜

裝飾鍍膜,工具鍍膜

Ti, Zr, Cr, Graphite/C, TiAl, TiSi,CrSi, CrAl, TiCr, AlTiSi, AlCrSi

機殼鍍膜

Al, Cu, Cr, Sus304, In, Sn, InSn,W/Cr, W Heater

燃料電池

ZrO2/Y2O3, YSZ),NiO/YSZ,LaSrMnO3-LSM, LaNiO3.
CeO2/Gd2O3, Ba2In2O5, La(Sr, Mg)GaO3

半導體前後段製程

AlCu, AlSiCu, AlSi,Ti , Cu, Ta, Co , Al, Cu, Cr, Ti, NiV, WTi

矽晶圓背面金屬化

Ti, Ni, Ag , AuSn,

玻璃鍍膜

Si/SiAl, Zn, Sn, ZnAl, ZnSn, ZnSnSb, Ti/TiO2, Al, AlSi, Cr, Nb, Nb2O5 SiAl, Si, TiO2

太陽能電池

ITO, SnO2, Cu, Cr, ITO, ZnO, AZO,Mo,CuInGa, CuInSe,InGaSe, CuSe,CuGa, CuIn, InSe, Cu, In, Ga, InGaZnO4,SrCu2O2, CuAlO2, CuCrO2SiAl, Si

二極體發光 有機發光二極體

Al, Ti, Ni, Ag, Au, ITO (95/5), AuGe, AuBe, AuAs, AuZn SiO2, ITO Tablet, Al Wire, IZO, ATO, AZO, MgAg, Au, LiF, CaO, In, ITO, IZO

電子電阻元件

NiCrSi,NiCrAl, CrSi, NiCrAlSi, TiCrAlSi, Cu,Ti, WTi, Ta, SiO2,CuNi, CuTi, CuSn, CuMnSn, NiTiSi,NiTiSn, CuMnNiSi, CuMnNiSn

│High Purity Materials 高純度材料│

│Special Metals Alloys 特殊金屬合金 │

│ Powder / Nano Materials 粉末及奈米材料│

│Special Ceramic Materials 特殊陶瓷材料│