濺鍍靶材,Sputtering Targets

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濺鍍靶材,Sputtering Targets

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新輔科技有限公司成立於2001年9月
提供產業多樣化的材料需求: 經由專業的材料加工技術:(包括機械加工，切割銲接加工，靶材接合Bonding，真空感應熔煉，真空熱壓燒結，無壓燒結，氣氛燒結,擠壓,熱處理)以提供行業生產使用

濺鍍靶材應用,Sputtering Targets Application: 裝飾鍍膜,工具鍍膜,機殼鍍膜, 燃料電池 液晶面板,觸控面板,太陽能電池 矽晶圓背面金屬化,半導體前後段製程, 發光二極體,有機發光二極體, 電阻元件

學術及研發單位研究開發靶材

材質依英文字母序分為:

裝飾鍍膜,工具鍍膜

Ti, Zr, Cr, Graphite/C, TiAl, TiSi,CrSi, CrAl, TiCr, AlTiSi, AlCrSi

機殼鍍膜

Al, Cu, Cr, Sus304, In, Sn, InSn,W/Cr, W Heater

燃料電池

ZrO2/Y2O3, YSZ),NiO/YSZ,LaSrMnO3-LSM, LaNiO3.
CeO2/Gd2O3, Ba2In2O5, La(Sr, Mg)GaO3

半導體前後段製程

AlCu, AlSiCu, AlSi,Ti , Cu, Ta, Co , Al, Cu, Cr, Ti, NiV, WTi

矽晶圓背面金屬化

Ti, Ni, Ag , AuSn,

液晶面板 觸控面板

ITO, Cr, Mo/Al, Nb, Si, SiO2, Mo, Al, Nb2O5

玻璃鍍膜

Si/SiAl, Zn, Sn, ZnAl, ZnSn, ZnSnSb, Ti/TiO2, Al, AlSi, Cr, Nb, Nb2O5 SiAl, Si, TiO2

太陽能電池

ITO, SnO2, Cu, Cr, ITO, ZnO, AZO,Mo,CuInGa, CuInSe,InGaSe, CuSe,CuGa, CuIn, InSe, Cu, In, Ga, InGaZnO4,SrCu2O2, CuAlO2, CuCrO2SiAl, Si

二極體發光 有機發光二極體

Al, Ti, Ni, Ag, Au, ITO (95/5), AuGe, AuBe, AuAs, AuZn SiO2, ITO Tablet, Al Wire, IZO, ATO, AZO, MgAg, Au, LiF, CaO, In, ITO, IZO

電子電阻元件

NiCrSi,NiCrAl, CrSi, NiCrAlSi, TiCrAlSi, Cu,Ti, WTi, Ta, SiO2,CuNi, CuTi, CuSn, CuMnSn, NiTiSi,NiTiSn, CuMnNiSi, CuMnNiSn

│High Purity Materials 高純度材料│

│Special Metals Alloys 特殊金屬合金 │

│ Powder / Nano Materials 粉末及奈米材料│

│Special Ceramic Materials 特殊陶瓷材料│