蒸鍍,濺鍍,真空鍍膜物質使用對照表
PVD Table
蒸鍍,濺鍍,真空鍍膜物質使用對照表: 下列材料可參考本頁:
28. Tungsten Selenide WSe2,Tungsten Silicide WSi2,Tungsten Telluride,WTe2,Uranium U,Uranium (II) Sulfide US,Uranium (III) Oxide U2O3,Uranium (IV)
Oxide UO2,Uranium (IV) Sulfide US2,Uranium Carbide UC2,Uranium Fluoride,UF4,Uranium Phosphide UP2,Vanadium V
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