蒸鍍,濺鍍,真空鍍膜物質使用對照表,PVD Table

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蒸鍍,濺鍍,真空鍍膜物質使用對照表 PVD Table

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蒸鍍,濺鍍,真空鍍膜物質使用對照表: 下列材料可參考本頁:

11. Hafnium Nitride HfN,Hafnium Oxide HfO2,Hafnium Silicide HfSi2,Holmium Ho,Holmium Fluoride HoF3,Holmium Oxide Ho2O3,Inconel® Ni/Cr/Fe,Indium In, Indium (I) Oxide In2O,Indium (III) Oxide In2O3,Indium (I) Sulfide In2S,Indium (II) Sulfide InS, More Materials

蒸鍍,濺鍍,真空鍍膜物質使用對照表PVD Table
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